Połączyć – Verbinden – Interfacing

Unter dem Motto „Połączyć-Verbinden–Interfacing“ verfolgt das Joint Lab IHP/PUT das Ziel, grenzüberschreitend den Austausch zwischen Studenten und jungen Wissenschaftlern aus Deutschland und Polen zu fördern. Die Zusammenarbeit zwischen der Poznan University of Technology und dem IHP stellt im Ausbildungsbereich eine ideale Plattform dar, um bereits im Studium einen Einblick in die Materialforschung im Bereich der modernen Siliziummikroelektronik zu gewähren. Praktika und Abschlussarbeiten von PUT-Studenten am IHP werden gefördert, um erste Erfahrungen in wissenschaftlicher Arbeit in diesem Bereich zu sammeln.

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    Der Forschungsschwerpunkt des Joint Labs ist die Entwicklung von:

    • Oberflächenstudien zu GeSn-Legierungen
    • Plasmonik-Nanoantennen auf Germaniumbasis

    Zurzeit werden zwei verschiedene Themenbereiche innerhalb des Joint Lab verfolgt. Erstens, die langjährige Erfahrung und Expertise der PUT in Ultra-Hoch-Vakuum-Technik und Rastertunnelmikroskopie in Kombination mit der Oberflächenclusteranlage des IHP bieten spannende Anknüpfungspunkte zu aktuellen GeSn-Oberflächenstudien am IHP.

    Zweitens erfordert die Entwicklung von CMOS-kompatibler Plasmonik optimierte Materialeigenschaften (z. B. hochdotiertes Germanium mit hoher Mobilität und die Erforschung von Nanostrukturen mit unterschiedlichen Geometrien). Die Kombination des Fachwissens - von IHP in der Halbleiterverarbeitung und von PUT in der Nanofabrikation - bietet die Grundlage zur gemeinsamen Entwicklung von Plasmonik-Nanoantennen auf Germaniumbasis, die eine verbesserte Terahertz-Spektroskopie organischer Moleküle für Anwendungen in der Biosensorik versprechen.

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    1. Growth and evolution of nickel germanide nanostructures on Ge(001),
      T. Grzela, G. Capellini, W. Koczorowski, M. A. Schubert, R. Czajka, N. J. Curson, I. Heidmann, Th. Schmidt, J. Falta, T. Schroeder,
      Nanotechnology 26, 385701 (2015)
    2. Ba Termination of Ge(001) Studied with STM
      W. Koczorowski, T. Grzela, M.W. Radny, S.R. Schofield, G. Capellini, R. Czajka, T. Schroeder, N.J. Curson
      Nanotechnology 26, 155701 (2015)
    3. Interface and Nanostructure Evolution of Cobalt Germanides on Ge(001)
      T. Grzela, W. Koczorowski, G. Capellini, R. Czajka, M.W. Radny, N. Curson, S.R. Schofield, M.A. Schubert, T. Schroeder
      Journal of Applied Physics 115, 074307 (2014)
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    Das eigentliche Ziel des Joint Lab IHP/PUT ist die nationalen Grenzen zu überwinden und die Bildungs- und Ausbildungsaktivitäten bei IHP und PUT zu kombinieren. Ein weiterer wichtiger Partner ist hier das Institut für Physik und Chemie der Brandenburgischen Technischen Universität in Cottbus-Senftenberg (BTU-CS), wo ein deutsch-polnisches Bachelor-Studienprogramm in Physik zusammen mit der PUT eingerichtet wird. Die Aufgabe des IHP besteht darin, Praktika für Studenten von PUT und BTU-CS anzubieten, um sich in hochmodernen Materialwissenschaften sowie an modernen Geräten der Si-Technologie ausbilden zu lassen. Darüber hinaus wird regelmäßig eine deutsch-polnische Sommerschule organisiert, um Studenten polnischer und deutscher Universitäten mit einem breiten Spektrum von Experten auf dem Gebiet der Si-Mikro- und Nanoelektronik zusammenzubringen.

Dr. Wolfgang Klesse

IHP
Im Technologiepark 25
15236 Frankfurt (Oder)
Deutschland

Telefon: +49 335 5625 424
Fax: +49 335 5625 681
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